Рис. 6. Спектральная яркость
B
ν
(
1–3
) и яркостная температура
Т
я
(
4
) в
ВУФ-области спектра приповерхностной лазерной плазмы плоской (CH
2
O)
n
-
мишени, средние по полосам поглощения ксенона (
1, 4
), гелия (
2
), оксида азота
(
3
) при
λ
и
= 1
,
06
мкм
приведены на рис. 6 для условий, когда при пороговых интенсивно-
стях воздействия
I
0
(
λ
)
образуется лазерная детонационная ударная
волна (УВ). Оценки плазменных параметров в условиях генерации
УВ при
I
0
> I
0
(
λ
1
)
(используя формализм работы [8] и таблицы
термодинамических функций и ударных адиабат [9]) показывают су-
ществование внутри области поглощения лазерного излучения (между
фронтом УВ и плоскостью Жуге) плазменных зон с критической кон-
центрацией электронов (
n
e
крит
>
10
10
см
−
3
) для лазерного излучения
с
λ
1
10
,
6
мкм, что является причиной сильного отражения лазерно-
го излучения, наблюдаемого экспериментально. При увеличении
I
0
концентрация электронов должна превышать критическую уже не-
посредственно на фронте УВ и поглощение лазерного излучения в
этом случае возможно лишь в узком неравновесном релаксацион-
ном слое на ее фронте. Однако при высоких интенсивностях потока
лазерного излучения происходит переход от гидродинамического к
радиационному механизму распространения волны поглощения, что
сопровождается размытием фронта волны ионизации за счет появле-
ния перед УВ слоя прогретого газа, поглощающего лазерное излучение
[7], что и является причиной наблюдаемого уменьшения коэффици-
ента отражения от приповерхностной зоны при дальнейшем росте
I
0
(
t
)
.
При низких значениях плотностей потока излучения (
I
0
< I
0
)
,
вследствие возрастания времени плазмообразования
t
п
, увеличивает-
ся вклад в полные потери излучения за счет отражения лазерного
22
ISSN 1812-3368. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Естественные науки”. 2006. № 4
