Исследование ЭБ-структуры фотонного кристалла на основе матрицы опала в оптической области - page 3

Рис
. 3.
Механические неровности на второй большой поверхности кристалла
при нормальном падении света
Рис
. 4.
Отражение от первой поверхности
б
´o
льшая часть поверхности
(
>
95
%)
имела одинаковую
,
почти моно
-
хроматическую окраску и относительное отклонение от одноцветности
было около
2. . . 5%.
Этот экспериментальный результат является точ
-
ным для всех шести поверхностей образца
.
В зависимости от постоян
-
ной решетки конкретного образца они имели цвет со средней длиной
волны в пределах
500. . . 580
нм
.
Поэтому в процессе исследования при
-
нималась неизменность постоянной решетки для данного образца
.
На всех поверхностях
,
кроме первой
,
наблюдались неровности
,
свя
-
занные с механической обработкой
(
рис
. 3).
На первой поверхности на
-
блюдались параллельные эквидистантные линии
,
выявляемые характе
-
ром отражения излучения от данной поверхности при определенных
углах падения излучения
(
рис
. 4).
Было обнаружено
,
что вблизи больших поверхностей имеются об
-
щие закономерности роста образцов
.
Так
,
у первой поверхности
,
на
которой не были заметны следы механической обработки
,
внутренняя
структура кристалла представляла собой слоистое образование
,
под
-
ходящее к поверхности под малым углом
(
не более
10
)
.
Структура
кристалла у второй поверхности представляла собой набор столбцов
,
32
ISSN 1812-3368.
Вестник МГТУ им
.
Н
.
Э
.
Баумана
.
Сер
. “
Естественные науки
”. 2005.
2
1,2 4,5
Powered by FlippingBook