Background Image
Previous Page  2 / 10 Next Page
Information
Show Menu
Previous Page 2 / 10 Next Page
Page Background

(1911 K), низкая плотность (5,85 г/см

3

), а также стойкость к окисле-

нию [1]. Исследованию динамики решетки

β

-NiAl посвящены работы

[2–4]. Экспериментальное исследование NiAl проведено в работе [2],

методом неупругого рассеяния нейтронов были измерены кривые дис-

персии фононов по основным направлениям симметрии, для описания

результатов эксперимента использована модель Борна – Кармана с уче-

том трех и четырех ближайших соседей. Исходя из первых принципов

с использованием метода линейного отклика и ультрамягких псевдо-

потенциалов в работе [3] были исследованы фононный спектр и фо-

нонная плотность состояний интерметаллидов Ni

3

Al и NiAl. С учетом

первых принципов в работе [4] также исследованы аномалии акусти-

ческих ветвей по основным направлениям симметрии.

В настоящей статье кривые дисперсии фононов, полная и парци-

альная плотность фононных состояний были определены исходя из

динамической модели, разработанной в работах [5–9], в которой для

определения сил межатомного взаимодействия использовался меха-

низм вандерваальсовых связей. По этим данным построены зависи-

мости среднеквадратичных смещений атомов каждой подрешетки и

теплоемкости кристалла от температуры.

Методика расчета.

Кратко опишем основные положения исполь-

зуемой методики расчета (более подробно с методикой можно ознако-

миться в работе [10]).

Рассмотрим бинарную кубическую кристаллическую решетку ти-

па CsCl. Предположим, что в процессе колебаний атомов решетки в

каждом из них находится внутриатомный диполь, одним из полюсов

которого является остов атома, а другим — центр заряда его внешней

электронной оболочки (ВЭО). Пусть

Λ

— множество всех числовых

наборов

ξ

= (

h, k, l

)

, в которых существуют числа

1

h, k, l

N

,

задающих положение узла кристаллической решетки. Обозначим че-

рез

p

ξ

плечо дипольного момента атома

A

ξ

, наведенного в результате

его относительного перемещения с соседними атомами из первой и

второй координационных сфер.

На внутриатомный диполь атома

A

ξ

действует кулоновская сила

Q

ξ

со стороны диполей остальных атомов решетки, в результате чего

центр заряда ВЭО атома и плечо его дипольного момента получают

некоторое приращение

Δp

ξ

:

P

ξ

= p

ξ

+ Δp

ξ

.

Наведенный дополнительный дипольный момент создает частич-

ное экранирование силы

Q

ξ

, тогда внешняя сила, действующая на

остов атома, становится равной:

F

ξ

= Q

ξ

(

β/α

) Δp

ξ

,

где

α

— поля-

ризуемость атома

A

ξ

;

β

=

q

2

/

(4

πε

0

)

,

q

— эффективный заряд диполя

атома.

ISSN 1812-3368. Вестник МГТУ им. Н.Э. Баумана. Сер. “Естественные науки”. 2015. № 3

111